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誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）用のガス供給手段

Precisionシリーズの窒素ガス発生装置は、誘導結合プラズマ質量分析で水素の衝突を作り出すのに理想的な働きをします。ガスボンベに比べ安全かつ安定した水素ガス供給ができ、メンテンナンスも最小限で済むため、コンパクトで経済的なガス供給手段としてお使いいただけます。

ボタンを押すだけで水素ガスを安全に供給できるガス発生装置を利用することで、ガスボンベの取り扱いを減らすことができます。

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12 件の結果のうち 12 件を表示誘導結合プラズマ質量分析（ICP-MS）用のガス供給手段

Precision Trace 250水素発生器の詳細については、こちらをご覧ください。

アプリケーション: ICP-MS GC & GC-MS

Precision Hydrogen Trace 500ジェネレーターは、主にGCキャリアガス用に設計されており、FIDやFPDなどの検出器やICP-MSにも使用できます。

アプリケーション: ICP-MS GC & GC-MS

Precision Trace 1200 Hydrogen Generatorの詳細については、こちらをご覧ください。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS

Precision Hydrogen 300 H2ジェネレータの詳細については、こちらをご覧ください。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS

Peak Scientificのi-FlowLab 6XX2窒素発生装置は、現場で窒素ガスを生成するための総合的なラボソリューションを提供します。

Peak Scientificのi-FlowLab 6XX2窒素発生装置は、現場で窒素ガスを生成するための総合的なラボソリューションを提供します。

Peak Scientificのi-FlowLab 6XX1窒素発生装置は、現場で窒素ガスを生成するための総合的なラボソリューションを提供します。

Peak Scientificのi-FlowLab 6XX2窒素発生装置は、現場で窒素ガスを生成するための総合的なラボソリューションを提供します。

NG3000Aは、圧力スイング吸着（PSA）技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を3 L/minで供給します

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS CAD & ELSD CD

NG3000は、圧力スイング吸着（PSA）技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を3 L/minで供給します。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS CAD & ELSD CD

NG5000Aは、圧力スイング吸着（PSA）技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を5 L/minで供給します。

アプリケーション: CAD & ELSD ICP-MS GC & GC-MS CD

NG5000は、圧力スイング吸着（PSA）技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を5 L/minで供給します。