Nitrogen solutions for LCP

誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS)用のガス供給手段

Precisionシリーズの窒素ガス発生装置は、誘導結合プラズマ質量分析で水素の衝突を作り出すのに理想的な働きをします。ガスボンベに比べ安全かつ安定した水素ガス供給ができ、メンテンナンスも最小限で済むため、コンパクトで経済的なガス供給手段としてお使いいただけます。

ボタンを押すだけで水素ガスを安全に供給できるガス発生装置を利用することで、ガスボンベの取り扱いを減らすことができます。

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Precision Hydrogen Trace 250 水素 発生

Precision Trace 250水素発生器の詳細については、こちらをご覧ください。

アプリケーション: ICP-MS GC & GC-MS

Precision Hydrogen Trace 500 水素 発生

Precision Hydrogen Trace 500ジェネレーターは、主にGCキャリアガス用に設計されており、FIDやFPDなどの検出器やICP-MSにも使用できます。

アプリケーション: ICP-MS GC & GC-MS

Precision Hydrogen Trace 1200 水素 発生

Precision Trace 1200 Hydrogen Generatorの詳細については、こちらをご覧ください。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS

Precision Hydrogen 200 水素 発生

Precision 200水素発生器のすべてをここで発見してください。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS

Precision Hydrogen 300 水素 発生

Precision Hydrogen 300 H2ジェネレータの詳細については、こちらをご覧ください。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS

Precision Hydrogen 1200 水素 発生

精密水素発生器は、FIDなどの水素燃料ガスを必要とする検出器に必要なガスを提供するように設計されています。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS

i-Flowlab 60x1 窒素発生装置

Peak Scientificのi-FlowLab 6XX1窒素発生装置は、現場で窒素ガスを生成するための総合的なラボソリューションを提供します。

アプリケーション: LC-MS GC & GC-MS ICP-MS FT-IR MP-AES CAD & ELSD 試料調整用 その他の

i-Flowlab 60x2 窒素発生装置

Peak Scientificのi-FlowLab 6XX2窒素発生装置は、現場で窒素ガスを生成するための総合的なラボソリューションを提供します。

アプリケーション: LC-MS GC & GC-MS ICP-MS FT-IR MP-AES CAD & ELSD 試料調整用 その他の

NG3000A 窒素発生装置

NG3000Aは、圧力スイング吸着(PSA)技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を3 L/minで供給します

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS CAD & ELSD CD

NG3000 窒素発生装置

NG3000は、圧力スイング吸着(PSA)技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を3 L/minで供給します。

アプリケーション: GC & GC-MS ICP-MS CAD & ELSD CD

NG5000A 窒素発生装置

NG5000Aは、圧力スイング吸着(PSA)技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を5 L/minで供給します。

アプリケーション: CAD & ELSD ICP-MS GC & GC-MS CD

NG5000 窒素発生装置

NG5000は、圧力スイング吸着(PSA)技術により、微量検出限界レベルで、GCアプリケーション用の超高純度の窒素を5 L/minで供給します。

アプリケーション: ICP-MS CAD & ELSD GC & GC-MS CD

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